解像度: 1.8→50 Å / Num. obs: 81316 / % possible obs: 98.6 % / 冗長度: 7.9 % / Biso Wilson estimate: 24.275 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.064 / Net I/σ(I): 31.4
反射 シェル
解像度: 1.8→1.86 Å / 冗長度: 6.8 % / Rmerge(I) obs: 0.276 / Mean I/σ(I) obs: 5.3 / % possible all: 93
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0005
精密化
HKL-2000
データ収集
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
SOLVE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 / 解像度: 1.8→30.46 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.954 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.937 / SU B: 2.924 / SU ML: 0.093 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.149 / ESU R Free: 0.137 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23376
4079
5 %
RANDOM
Rwork
0.19559
-
-
-
obs
0.19753
77222
98.52 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK