プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.1→30 Å / Num. obs: 26832 / % possible obs: 96.2 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 6.2 % / Rmerge(I) obs: 0.11 / Net I/σ(I): 20.2
反射 シェル
解像度: 2.1→2.18 Å / 冗長度: 3 % / Mean I/σ(I) obs: 2.99 / % possible all: 80.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
HKL-2000
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.31→55.56 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.933 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.912 / SU B: 12.873 / SU ML: 0.145 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.226 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.227
1002
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.193
-
-
-
obs
0.195
18691
97.5 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK