モノクロメーター: Si(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.7 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.45→20 Å / Num. all: 31971 / Num. obs: 31954 / % possible obs: 100 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 11.2 % / Biso Wilson estimate: 17.31 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.076 / Net I/σ(I): 13.4
反射 シェル
解像度: 1.45→1.5 Å / Rmerge(I) obs: 0.286 / % possible all: 100
反射
*PLUS
最低解像度: 20 Å / % possible obs: 100 % / Num. measured all: 357913
反射 シェル
*PLUS
最低解像度: 1.5 Å / % possible obs: 100 %
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
SOLVE
位相決定
直接法
モデル構築
ARP/wARP
モデル構築
X-PLOR
3.851
精密化
直接法
位相決定
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 / 解像度: 1.45→10 Å / Data cutoff high absF: 1000000 / Data cutoff low absF: 0.001 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 2 / 立体化学のターゲット値: Engh & Huber 詳細: THE PROGRAM REFMAC (CCP4) WAS ALSO USED IN REFINEMENT PROCESS FOR DATA AT 20.0-1.45 A