AS PER THE AUTHORS THE OLIGOMERIC STATE OF HG2 APPEARS TO BE CONCENTRATION DEPENDENT WITH OLIGOMERS OF AT LEAST TETRAMERIC WEIGHT FORMING AT CONCENTRATIONS AS LOW AS 50 UM.
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.99 Å / 相対比: 1
Reflection
冗長度: 3.5 % / Av σ(I) over netI: 8.9 / 数: 574939 / Rsym value: 0.046 / D res high: 1.23 Å / D res low: 61.104 Å / Num. obs: 166622 / % possible obs: 98.8
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Rsym value
Redundancy
3.89
34.08
86.8
1
0.033
0.033
3.4
2.75
3.89
98.1
1
0.034
0.034
3.7
2.25
2.75
99.4
1
0.038
0.038
3.7
1.94
2.25
99.5
1
0.048
0.048
3.7
1.74
1.94
100
1
0.055
0.055
3.7
1.59
1.74
100
1
0.079
0.079
3.7
1.47
1.59
100
1
0.102
0.102
3.7
1.38
1.47
100
1
0.169
0.169
3.6
1.3
1.38
100
1
0.262
0.262
3.5
1.23
1.3
96.4
1
0.338
0.338
2.3
反射
解像度: 1.23→61.104 Å / Num. obs: 166622 / % possible obs: 98.8 % / 冗長度: 3.5 % / Rsym value: 0.046 / Net I/σ(I): 10.3
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Mean I/σ(I) obs
Rsym value
Diffraction-ID
% possible all
1.23-1.3
2.3
0.338
2
0.338
1
96.4
1.3-1.38
3.5
0.262
2.6
0.262
1
100
1.38-1.47
3.6
0.169
3.8
0.169
1
100
1.47-1.59
3.7
0.102
6.8
0.102
1
100
1.59-1.74
3.7
0.079
8.4
0.079
1
100
1.74-1.94
3.7
0.055
11.4
0.055
1
100
1.94-2.25
3.7
0.048
12.4
0.048
1
99.5
2.25-2.75
3.7
0.038
15.7
0.038
1
99.4
2.75-3.89
3.7
0.034
18
0.034
1
98.1
3.89-34.081
3.4
0.033
18.7
0.033
1
86.8
-
位相決定
位相決定
手法: 分子置換
Phasing MR
Rfactor: 45.91 / Model details: Phaser MODE: MR_AUTO
最高解像度
最低解像度
Rotation
1.23 Å
34.08 Å
Translation
1.23 Å
34.08 Å
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
MOSFLM
データ削減
SCALA
3.3.12
データスケーリング
PHASER
2.1.4
位相決定
REFMAC
精密化
PDB_EXTRACT
3.1
データ抽出
Blu-Ice
データ収集
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.23→34.08 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.973 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.962 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0 / SU B: 2.119 / SU ML: 0.04 / SU R Cruickshank DPI: 0.0498 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.05 / ESU R Free: 0.05 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.19597
8337
5 %
RANDOM
Rwork
0.15684
-
-
-
obs
0.15878
158059
98.58 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK