プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97872 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.1→30 Å / Num. obs: 10882 / 冗長度: 4.2 % / Rmerge(I) obs: 0.162 / Net I/σ(I): 13.2
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Diffraction-ID
2.1-2.14
3.3
0.482
1
2.14-2.18
3.5
0.579
1
2.18-2.22
3.8
0.482
1
2.22-2.26
3.9
0.448
1
2.26-2.31
4.1
0.461
1
2.31-2.37
4.2
0.403
1
2.37-2.42
4.3
0.397
1
2.42-2.49
4.4
0.356
1
2.49-2.56
4.4
0.303
1
2.56-2.65
4.3
0.277
1
2.65-2.74
4.4
0.232
1
2.74-2.85
4.4
0.211
1
2.85-2.98
4.4
0.165
1
2.98-3.14
4.4
0.131
1
3.14-3.33
4.4
0.107
1
3.33-3.59
4.4
0.09
1
3.59-3.95
4.3
0.085
1
3.95-4.52
4.3
0.074
1
4.52-5.69
4.4
0.069
1
5.69-30
4.2
0.074
1
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
AMoRE
位相決定
REFMAC
5.5.0102
精密化
DENZO
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.1→27.97 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.952 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.906 / SU B: 5.605 / SU ML: 0.152 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.3 / ESU R Free: 0.218 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23987
521
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.17295
-
-
-
obs
0.17629
10293
99.3 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK