詳細: 50% PEG 300, 0.20 M NACL, 0.1 M NA/K-PO4, PH 6.2
-
データ収集
回折
平均測定温度: 100 K
放射光源
由来: シンクロトロン / サイト: SLS / ビームライン: X10SA / 波長: 0.88
検出器
タイプ: MARRESEARCH / 検出器: CCD / 日付: 2009年1月30日
放射
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.88 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.8→45.6 Å / Num. obs: 30800 / % possible obs: 100 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 3.7 % / Rmerge(I) obs: 0.09 / Net I/σ(I): 7.8
反射 シェル
解像度: 2.8→2.95 Å / 冗長度: 3.7 % / Rmerge(I) obs: 0.53 / Mean I/σ(I) obs: 1.9 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0085
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.8→45.6 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.929 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.927 / SU B: 25.811 / SU ML: 0.255 / TLS residual ADP flag: LIKELY RESIDUAL / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.768 / ESU R Free: 0.326 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. UNK ATOMS RELATED TO A SECOND LIGAND WERE MODELED IN THE ACTIVE SITE.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.248
1550
5 %
RANDOM
Rwork
0.224
-
-
-
obs
0.225
29219
99.9 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK