プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9796 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.19→50 Å / Num. obs: 115881 / % possible obs: 99.6 % / 冗長度: 5.2 % / Net I/σ(I): 22.1
反射 シェル
解像度: 2.19→2.24 Å / 冗長度: 4.1 % / Mean I/σ(I) obs: 2.1 / % possible all: 99
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0103
精密化
PDB_EXTRACT
3.15
データ抽出
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
HKL-2000
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.19→36.05 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.951 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.917 / SU B: 10.406 / SU ML: 0.237 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.234 / ESU R Free: 0.216 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES : REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.28065
5778
5 %
RANDOM
Rwork
0.22062
-
-
-
obs
0.22365
109440
98.43 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK