モノクロメーター: GRAPHITE / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.08→50 Å / Num. obs: 59073 / % possible obs: 99.8 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 3.7 % / Biso Wilson estimate: 31.74 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 20.5
反射 シェル
解像度: 2.08→2.12 Å / 冗長度: 3.7 % / Rmerge(I) obs: 0.8 / Mean I/σ(I) obs: 2 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.7.0029
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
REFMAC
位相決定
精密化
構造決定の手法: その他 開始モデル: NONE 解像度: 2.08→42.66 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.972 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.956 / SU B: 7.279 / SU ML: 0.107 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.168 / ESU R Free: 0.149 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES WITH TLS ADDED RESIDUES 110 TO 120 IN CHAIN A AND 111-120 IN CHAIN B ARE DISORDERED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.19696
2943
5 %
RANDOM
Rwork
0.15409
-
-
-
obs
0.15621
55954
99.84 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK