解像度: 2.19→50 Å / Num. obs: 15924 / % possible obs: 99.7 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 3.6 % / Biso Wilson estimate: 34.9 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.083 / Rsym value: 0.083 / Net I/σ(I): 11.1
反射 シェル
解像度: 2.19→2.24 Å / Rmerge(I) obs: 0.415 / Mean I/σ(I) obs: 2 / Rsym value: 0.415 / % possible all: 99.2
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
SHELX
モデル構築
RESOLVE
モデル構築
PHASER
位相決定
REFMAC
5.2.0019
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
SHELX
位相決定
RESOLVE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 開始モデル: OBTAINED BY MAD PHASING OF A TA6BR12 SOAKED JAML CRYSTAL AND SUBSEQUENT MR INTO THE NATIVE HIGH RESOLUTION DATA 解像度: 2.19→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.962 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.947 / SU B: 9.735 / SU ML: 0.128 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.209 / ESU R Free: 0.176 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. CNS WAS ALSO USED FOR THE REFINEMENT.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.213
799
5 %
RANDOM
Rwork
0.17
-
-
-
obs
0.172
15098
99.3 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK