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-基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 1gaq | ||||||
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タイトル | CRYSTAL STRUCTURE OF THE COMPLEX BETWEEN FERREDOXIN AND FERREDOXIN-NADP+ REDUCTASE | ||||||
要素 |
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キーワード | OXIDOREDUCTASE/ELECTRON TRANSPORT / OXIDOREDUCTASE-ELECTRON TRANSPORT complex | ||||||
機能・相同性 | 機能・相同性情報 chloroplast thylakoid membrane protein complex / oxidoreductase activity, acting on NAD(P)H, heme protein as acceptor / フェレドキシン-NADP+レダクターゼ / NADPH dehydrogenase activity / ferredoxin-NADP+ reductase activity / 葉緑体 / 電子伝達系 / response to light stimulus / 光合成 / 葉緑体 ...chloroplast thylakoid membrane protein complex / oxidoreductase activity, acting on NAD(P)H, heme protein as acceptor / フェレドキシン-NADP+レダクターゼ / NADPH dehydrogenase activity / ferredoxin-NADP+ reductase activity / 葉緑体 / 電子伝達系 / response to light stimulus / 光合成 / 葉緑体 / 2 iron, 2 sulfur cluster binding / electron transfer activity / nucleotide binding / metal ion binding 類似検索 - 分子機能 | ||||||
生物種 | Zea mays (トウモロコシ) | ||||||
手法 | X線回折 / シンクロトロン / 解像度: 2.59 Å | ||||||
データ登録者 | Kurisu, G. / Kusunoki, M. / Hase, T. | ||||||
引用 | ジャーナル: Nat.Struct.Biol. / 年: 2001 タイトル: Structure of the electron transfer complex between ferredoxin and ferredoxin-NADP(+) reductase. 著者: Kurisu, G. / Kusunoki, M. / Katoh, E. / Yamazaki, T. / Teshima, K. / Onda, Y. / Kimata-Ariga, Y. / Hase, T. | ||||||
履歴 |
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-構造の表示
構造ビューア | 分子: MolmilJmol/JSmol |
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-ダウンロードとリンク
-ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | 1gaq.cif.gz | 152.1 KB | 表示 | PDBx/mmCIF形式 |
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PDB形式 | pdb1gaq.ent.gz | 119 KB | 表示 | PDB形式 |
PDBx/mmJSON形式 | 1gaq.json.gz | ツリー表示 | PDBx/mmJSON形式 | |
その他 | その他のダウンロード |
-検証レポート
アーカイブディレクトリ | https://data.pdbj.org/pub/pdb/validation_reports/ga/1gaq ftp://data.pdbj.org/pub/pdb/validation_reports/ga/1gaq | HTTPS FTP |
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-関連構造データ
-リンク
-集合体
登録構造単位 |
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1 |
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2 |
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単位格子 |
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-要素
#1: タンパク質 | 分子量: 35360.449 Da / 分子数: 2 / 由来タイプ: 組換発現 / 由来: (組換発現) Zea mays (トウモロコシ) / プラスミド: PQE60 / 発現宿主: Escherichia coli (大腸菌) 参照: UniProt: Q9SLP6, フェレドキシン-NADP+レダクターゼ #2: タンパク質 | | 分子量: 10518.369 Da / 分子数: 1 / 由来タイプ: 組換発現 / 由来: (組換発現) Zea mays (トウモロコシ) / 発現宿主: Escherichia coli (大腸菌) / 参照: UniProt: P27787 #3: 化合物 | #4: 化合物 | ChemComp-FES / | #5: 水 | ChemComp-HOH / | |
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-実験情報
-実験
実験 | 手法: X線回折 / 使用した結晶の数: 1 |
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-試料調製
結晶 | マシュー密度: 2.22 Å3/Da / 溶媒含有率: 44.71 % | ||||||||||||||||||||||||||||||
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結晶化 | 温度: 277 K / 手法: 蒸気拡散法, ハンギングドロップ法 / pH: 7.5 詳細: PEG 4000, Tris, sodium chloride, pH 7.5, VAPOR DIFFUSION, HANGING DROP, temperature 277K | ||||||||||||||||||||||||||||||
結晶化 | *PLUS 温度: 4 ℃ | ||||||||||||||||||||||||||||||
溶液の組成 | *PLUS
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-データ収集
回折 | 平均測定温度: 100 K |
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放射光源 | 由来: シンクロトロン / サイト: SPring-8 / ビームライン: BL41XU / 波長: 1 |
検出器 | タイプ: MARRESEARCH / 検出器: CCD / 日付: 1999年12月18日 |
放射 | プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray |
放射波長 | 波長: 1 Å / 相対比: 1 |
反射 | Biso Wilson estimate: 33.9 Å2 |
反射 シェル | 解像度: 2.68→2.85 Å |
反射 | *PLUS 最高解像度: 2.59 Å / Num. obs: 23300 / % possible obs: 97.8 % / Num. measured all: 319768 / Rmerge(I) obs: 0.098 |
反射 シェル | *PLUS 最高解像度: 2.59 Å / 最低解像度: 2.68 Å / % possible obs: 96.6 % / Rmerge(I) obs: 0.255 |
-解析
ソフトウェア |
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精密化 | 解像度: 2.59→39.56 Å / Rfactor Rfree error: 0.009 / Data cutoff high absF: 1246520.54 / Data cutoff high rms absF: 3042258.78 / Data cutoff low absF: 0 / Isotropic thermal model: RESTRAINED / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 2
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溶媒の処理 | 溶媒モデル: FLAT MODEL / Bsol: 30.4663 Å2 / ksol: 0.299211 e/Å3 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | Biso mean: 47.1 Å2
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Refine analyze |
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精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 2.59→39.56 Å
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拘束条件 |
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LS精密化 シェル | 解像度: 2.59→2.75 Å / Rfactor Rfree error: 0.03 / Total num. of bins used: 6
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Xplor file |
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ソフトウェア | *PLUS 名称: CNS / バージョン: 1 / 分類: refinement | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
精密化 | *PLUS σ(F): 2 / % reflection Rfree: 5.1 % / Rfactor obs: 0.233 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
溶媒の処理 | *PLUS | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | *PLUS Biso mean: 47.1 Å2 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
拘束条件 | *PLUS
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LS精密化 シェル | *PLUS Rfactor Rfree: 0.4 / % reflection Rfree: 4.9 % / Rfactor Rwork: 0.318 |