プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.98 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.24→47.48 Å / Num. obs: 76640 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 43.2 % / Rmerge(I) obs: 0.0131 / Net I/σ(I): 10.6
反射 シェル
解像度: 2.24→2.29 Å / Rmerge(I) obs: 0.3201
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0158
精密化
Aimless
データスケーリング
XDS
データ削減
SHELXCD
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.24→47.48 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.952 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.923 / SU B: 7.078 / SU ML: 0.172 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.273 / ESU R Free: 0.22 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24925
3842
5 %
RANDOM
Rwork
0.19499
-
-
-
obs
0.19768
72698
99.98 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK