プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.6→50 Å / Num. obs: 3011 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 15.1 % / Rmerge(I) obs: 0.069 / Net I/σ(I): 55.4
反射 シェル
解像度: 2.6→2.64 Å / 冗長度: 15 % / Rmerge(I) obs: 0.481 / Mean I/σ(I) obs: 8.8 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0110
精密化
HKL-3000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
PHENIX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.6→38.95 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.926 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.891 / SU B: 12.842 / SU ML: 0.261 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.481 / ESU R Free: 0.351 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: SF FILE CONTAINS FRIEDEL PAIRS UNDER I/F_MINUS AND I/F_PLUS COLUMNS. HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.31798
135
4.3 %
RANDOM
Rwork
0.23879
-
-
-
obs
0.2424
3011
99.24 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK