Component-ID: 0 / Beg auth comp-ID: MET / Beg label comp-ID: MET / End auth comp-ID: ALA / End label comp-ID: ALA / Refine code: 0 / Auth seq-ID: 1 - 258 / Label seq-ID: 1 - 258
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.6→45.6 Å / Num. obs: 32186 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 14.1 % / Rmerge(I) obs: 0.144 / Net I/σ(I): 34.6
反射 シェル
解像度: 2.6→2.67 Å / 冗長度: 14.1 % / Rmerge(I) obs: 0.382 / Mean I/σ(I) obs: 12.1 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.7.0029
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
解像度: 2.6→45.6 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.869 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.84 / SU B: 11.329 / SU ML: 0.247 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.364 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.26226
1631
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.23995
-
-
-
obs
0.24107
30495
99.28 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK