プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9173 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.18→51.22 Å / Num. obs: 86835 / % possible obs: 96.1 % / Observed criterion σ(I): 3.8 / 冗長度: 2.9 % / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 11.5
反射 シェル
解像度: 2.18→2.3 Å / 冗長度: 2.9 % / Rmerge(I) obs: 0.29 / Mean I/σ(I) obs: 3.8 / % possible all: 97.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0049
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: APO STRUCTURE 解像度: 2.18→105.57 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.948 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.919 / SU B: 5.086 / SU ML: 0.13 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.221 / ESU R Free: 0.187 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. DISORDERED REGIONS WERE MODELED STEREOCHEMICALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22396
4173
5 %
RANDOM
Rwork
0.17679
-
-
-
obs
0.17918
79013
95.8 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK