プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.972 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2→50 Å / Num. obs: 345441 / % possible obs: 98.9 % / Observed criterion σ(I): -3 / Biso Wilson estimate: 32.543 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.079 / Net I/σ(I): 12.41
反射 シェル
解像度 (Å)
Rmerge(I) obs
Mean I/σ(I) obs
Num. measured obs
Num. unique obs
Diffraction-ID
% possible all
2-2.12
0.554
2.26
183377
53085
1
94.2
2.12-2.26
0.354
3.69
195296
52829
1
99.7
2.26-2.44
0.259
5.07
187005
49270
1
99.9
2.44-2.68
0.173
7.43
174099
45338
1
99.9
2.68-2.99
0.106
11.59
158919
41163
1
99.9
2.99-3.45
0.061
19.22
139758
36189
1
99.9
3.45-4.22
0.039
29.61
117861
30701
1
99.9
4.22-5.95
0.031
35.27
91622
23801
1
99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
XSCALE
データスケーリング
REFMAC
精密化
PDB_EXTRACT
3.1
データ抽出
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2→48.37 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.922 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.897 / WRfactor Rfree: 0.2303 / WRfactor Rwork: 0.199 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.21 / FOM work R set: 0.8101 / SU B: 10.022 / SU ML: 0.15 / SU R Cruickshank DPI: 0.1979 / SU Rfree: 0.1719 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R Free: 0.179 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT U VALUES: WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2666
17271
5 %
RANDOM
Rwork
0.2287
-
-
-
obs
0.2306
345407
98.87 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK