タイプ: MAR CCD 130 mm / 検出器: CCD 詳細: Bent single Si (111) crystal monochromator (horizontal focusing and deflection) with vertical focusing mirror
放射
モノクロメーター: Bent single Si (111) crystal monochromator (horizontal focusing and deflection) with vertical focusing mirror プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9797 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.56→30 Å / Num. obs: 38372 / % possible obs: 97 % / 冗長度: 6.9 % / Rmerge(I) obs: 0.063 / Net I/σ(I): 26.67
反射 シェル
解像度: 1.56→1.6 Å / 冗長度: 5.9 % / Rmerge(I) obs: 0.48 / Mean I/σ(I) obs: 2.64 / Num. unique all: 3682 / % possible all: 94.5
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
REFMAC
5.5.0044
精密化
PDB_EXTRACT
3.006
データ抽出
HKL-2000
データ収集
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
解像度: 1.56→28.63 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.957 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.938 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.08 / SU B: 3.348 / SU ML: 0.059 / TLS residual ADP flag: LIKELY RESIDUAL / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.097 / ESU R Free: 0.098 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES : RESIDUAL ONLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.235
1905
5 %
RANDOM
Rwork
0.197
-
-
-
obs
0.199
37953
97.07 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK