モノクロメーター: Si (111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2→50 Å / Num. obs: 33134 / % possible obs: 99.4 % / 冗長度: 3.8 % / Biso Wilson estimate: 20.5 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.049 / Net I/σ(I): 21.3
反射 シェル
解像度: 2→2.07 Å / 冗長度: 3.8 % / Mean I/σ(I) obs: 4.7 / Num. unique all: 3318 / Rsym value: 0.398 / % possible all: 99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
MOLREP
位相決定
REFMAC
5.5.0109
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2→28.22 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.957 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.933 / SU B: 4.989 / SU ML: 0.139 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.191 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25719
1667
5 %
RANDOM
Rwork
0.20505
-
-
-
obs
0.20761
31376
99.17 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK