モノクロメーター: Si(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.15→50 Å / Num. obs: 15445 / % possible obs: 99.7 % / Biso Wilson estimate: 24.4 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.08
反射 シェル
解像度: 2.15→2.23 Å / Rmerge(I) obs: 0.374 / % possible all: 99.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.3.0034
精密化
HKL-2000
データ収集
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
SOLVE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.15→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.943 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.902 / SU B: 4.324 / SU ML: 0.116 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.211 / ESU R Free: 0.191 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24676
817
5 %
RANDOM
Rwork
0.19247
-
-
-
obs
0.195
15445
99.82 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK